摘要： 在光刻产业发展初期，摩尔定律推动着芯片性能呈现指数式上涨。然而，技术的自身发展规律导致技术“天花板”的出现，量子隧穿效应使摩尔定律失效，光刻技术出现技术锁定现象。基于路径构造理论的洞见，本文选取光刻产业专利信息分析技术锁定效应，以光刻产业的技术共类网络结构为核心，测度技术生态位特征的指标，分析光刻产业技术生态位的三维特征。并利用Kaplan-Meier法测度技术锁定效应，构建面板回归模型分析技术生态位的三维特征及综合作用对技术锁定效应的影响，进而从技术生态位特征入手识别技术锁定破解的机会窗口。